Modeling Of Chemical Vapor Deposition Of Tungsten Films
- Editore:
Birkhauser Verlag Ag
- EAN:
9783764328580
- ISBN:
3764328584
- Pagine:
- 138
- Formato:
- Hardback
- Lingua:
- Tedesco
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Descrizione Modeling Of Chemical Vapor Deposition Of Tungsten Films
Combines the presentation of models and numerical methods used in CVD simulation with a variety of technical applications for tungsten deposition in semiconductor technology.
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