Euv Sources For Lithography edito da Spie Press

Euv Sources For Lithography

Editore:

Spie Press

EAN:

9780819458452

ISBN:

0819458457

Pagine:
900
Formato:
Hardback
Lingua:
Inglese
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Descrizione Euv Sources For Lithography

An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from an overview of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas (DPP) and laser-produced plasmas, to a description of DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation.

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