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Electromigration in Thin Films and Electronic Devices: Materials and Reliability

Electromigration in Thin Films and Electronic Devices: Materials and Reliability

di C. U. Kim, Choong-Un Kim

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Descrizione

Understanding and limiting electromigration in thin films is essential to the continued development of advanced copper interconnects for integrated circuits. "Electromigration in Thin Films and Electronic Devices" provides an up-to-date review of key topics in this commercially important area.

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