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Advances in CMP/Polishing Technologies for the Manufacture of Electronic Devices

Advances in CMP/Polishing Technologies for the Manufacture of Electronic Devices

 

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Dettagli del libro

  • Titolo: Advances in CMP/Polishing Technologies for the Manufacture of Electronic Devices
  • Redattori: Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa
  • Editore: William Andrew Publishing
  • Data di Pubblicazione: December 2011
  • ISBN: 1437778593
  • ISBN-13: 9781437778595
  • Pagine: 00317
  • Reparto: Materials Science

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